Российские власти ускоряют курс на технологический суверенитет в микроэлектронике

Согласно материалам тендера, опубликованного 28 апреля 2026 года, на разработку программного комплекса для подготовки фотошаблонов выделено 943 млн рублей, а завершение работ запланировано к ноябрю 2028 года. Речь идёт о формировании ключевого элемента так называемого back-end маршрута — этапа, где топология микросхемы преобразуется в данные, пригодные для изготовления фотошаблонов.

До 2022 года российский рынок САПР де-факто контролировали Cadence Design Systems и Synopsys, однако санкционные ограничения фактически закрыли доступ к их инструментам. В этих условиях создание собственных решений становится не просто задачей импортозамещения, а необходимым условием функционирования отрасли.

Новый программный комплекс должен обеспечить полный базовый цикл подготовки данных: от загрузки и визуального контроля топологии до формирования эскизов и сборки фотошаблонов. Особый акцент сделан на совместимости с белорусским оборудованием — линейкой лазерных генераторов фотошаблонов серий ЭМ 5189/5289, DUV-системами ЭМ 5489Б и установками с пространственно-световой модуляцией ЭМ 5079. Это указывает на стратегию построения замкнутой производственной цепочки без зависимости от внешних поставщиков.

Отдельное требование — полная автономность: программное обеспечение должно функционировать без подключения к сети, что отражает приоритеты безопасности и изоляции производственных контуров.

Проект вписывается в более широкую «дорожную карту» развития САПР до 2030 года, где общий объём инвестиций в НИОКР оценивается в 54,6 млрд рублей. К этому сроку планируется создание около 100 платформ САПР, а выручка сегмента — на уровне 7,2 млрд рублей, из которых половина придётся на инструменты проектирования микросхем. Параллельно обозначена следующая технологическая цель — переход к разработке САПР для норм 28 нм, что, однако, потребует кратно более сложной экосистемы инструментов и производственных компетенций.

Фактически речь идёт о попытке заново собрать EDA-стек — от базовых инструментов до интеграции с оборудованием — в условиях ограниченного доступа к глобальным технологиям. При этом выбор зрелого техпроцесса 90 нм выглядит прагматичным: он остаётся востребованным в силовой электронике, промышленной автоматике и ряде специализированных применений, где критичны не столько размеры транзисторов, сколько надёжность и предсказуемость производства.