Дорожная карта проекта и технологические планы:
- 2026 г.: начало производства фотошаблонов для технологических норм 350 и 250 нм.
- 2027 г.: разработка шаблонов 180 нм и начало серийного выпуска продуктов 350 нм.
- 2028 г.: разработка 90 нм и начало выпуска 250 нм.
- 2029 г.: освоение серийного выпуска шаблонов 180 и 90 нм.
- К 2030 г.: планируется выйти на выпуск фотошаблонов 65 нм.
- Перспективная цель: освоение производства фотошаблонов для современных 28-нм технологий.
Участники и роль в технологической цепочке:
Проект реализуется при участии правительства Москвы, Минпромторга, Минобрнауки и Национального исследовательского университета «МИЭТ». Центр займет ключевое место в созданной технологической цепочке:
- Компания «Лассард» (производитель синтетического кварцевого стекла) возглавляет консорциум.
- Российский федеральный ядерный центр (РФЯЦ ВНИИЭФ) будет изготавливать из этого стекла высокочистые подложки.
- НТЦ ФШ займется производством из этих подложек готовых фотошаблонов и заготовок для длин волн 248 и 193 нм.
Цели и потребители продукции:
Главными задачаями центра являются локализация критически важных технологий, обеспечение потребностей российского рынка и организация экспорта готовой продукции. Основными потребителями фотошаблонов для производства микросхем станут ведущие отечественные предприятия: «Микрон», «НМ-Тех», НИИМЭ и другие.
Источник: https://www.cnews.ru/news/top/2025-08-22_v_rossii_nachnut_delat_fotoshablony
Если вам понравился материал, кликните значок - вы поможете нам узнать, каким статьям и новостям следует отдавать предпочтение. Если вы хотите обсудить материал - не стесняйтесь оставлять свои комментарии : возможно, они будут полезны другим нашим читателям!
