В понедельник издание The Information сообщило, что некий китайский производитель при господдержке уже наладил массовый выпуск такого оборудования. На первых порах объёмы будут скромными: в текущем году планируется выпустить пять установок, в следующем – около двадцати. Основными покупателями, как предполагается, станут ведущие китайские производители чипов - SMIC, HuaHong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Отмечалось, что подобное импортозамещение может пошатнуть позиции ASML на китайском рынке, хотя местное DUV-оборудование всё равно уступает западным аналогам в производительности и надёжности.
Ко вторнику агентство Reuters раскрыло имя производителя – им оказалась Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Компания основана в августе 2023 года с уставным капиталом около $1 млн, её соучредителями выступают две структуры, связанные с муниципальными властями Шанхая. Штат был усилен выходцами из Shanghai Yuliangsheng (в прошлом году тестировавшей прототип DUV-сканера) и более известной в этой сфере Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
На трёх первых торговых сессиях прошлой недели акции ASML потеряли более 13%, Infineon Technologies подешевели на 15,5%, и лишь к четвергу последовал отскок после заявлений аналитиков JP Morgan об избыточности реакции рынка. Китайские государственные СМИ не подтвердили факт начала выпуска DUV-оборудования, но намекнули, что «западная блокада» утратила эффективность, и выразили уверенность, что технологии, которые западные производители скрывали от Китая, со временем станут основой его промышленности.
В сентябре прошлого года стало известно о тестировании SMIC оборудования Yuliangsheng - DUV-системы для иммерсионной литографии, которая должна позволить наладить выпуск 28-нм чипов с 2027 года. В октябре появились публикации о попытках китайских клиентов ASML обратиться к этой компании за помощью в сборке одной из систем ASML, которую они изучали по частям с целью возможного копирования. Китайские источники утверждают, что Yuliangsheng, SMEE и Shanghai Aishengna фактически используют наработки одной и той же группы инженеров. В прошлом году SMEE передала разработку DUV-систем под крыло Yuliangsheng, чтобы сосредоточиться на создании более совершенного оборудования класса EUV.
Считается, что разрабатываемая китайская система SSX800 примерно сопоставима по характеристикам с ASML Twinscan NXT:1950i, которую нидерландский производитель выпустил ещё в 2008 году для производства 28-нм чипов. Родственная SSA800 на 70% состоит из компонентов китайского производства. Однако ключевые элементы - лазерные источники, зеркала, оптика и управляющее ПО – по-прежнему приходится импортировать. По оценкам западных экспертов, китайское оборудование для 28-нм чипов отстаёт от зарубежного на четыре поколения и обладает гораздо более низкой производительностью. Система SSA800 способна обрабатывать 150 пластин в час, но выход годной продукции пока далёк от целевых 90-95%. В любом случае, для массового внедрения эти системы пока «сыроваты» и малочисленны.
Источник: https://3dnews.ru/1146156/kitayskoe-oborudovanie-klassa-duv-dlya-proizvodstva-chipov-na-neskolko-pok...
Ко вторнику агентство Reuters раскрыло имя производителя – им оказалась Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Компания основана в августе 2023 года с уставным капиталом около $1 млн, её соучредителями выступают две структуры, связанные с муниципальными властями Шанхая. Штат был усилен выходцами из Shanghai Yuliangsheng (в прошлом году тестировавшей прототип DUV-сканера) и более известной в этой сфере Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
На трёх первых торговых сессиях прошлой недели акции ASML потеряли более 13%, Infineon Technologies подешевели на 15,5%, и лишь к четвергу последовал отскок после заявлений аналитиков JP Morgan об избыточности реакции рынка. Китайские государственные СМИ не подтвердили факт начала выпуска DUV-оборудования, но намекнули, что «западная блокада» утратила эффективность, и выразили уверенность, что технологии, которые западные производители скрывали от Китая, со временем станут основой его промышленности.
В сентябре прошлого года стало известно о тестировании SMIC оборудования Yuliangsheng - DUV-системы для иммерсионной литографии, которая должна позволить наладить выпуск 28-нм чипов с 2027 года. В октябре появились публикации о попытках китайских клиентов ASML обратиться к этой компании за помощью в сборке одной из систем ASML, которую они изучали по частям с целью возможного копирования. Китайские источники утверждают, что Yuliangsheng, SMEE и Shanghai Aishengna фактически используют наработки одной и той же группы инженеров. В прошлом году SMEE передала разработку DUV-систем под крыло Yuliangsheng, чтобы сосредоточиться на создании более совершенного оборудования класса EUV.
Считается, что разрабатываемая китайская система SSX800 примерно сопоставима по характеристикам с ASML Twinscan NXT:1950i, которую нидерландский производитель выпустил ещё в 2008 году для производства 28-нм чипов. Родственная SSA800 на 70% состоит из компонентов китайского производства. Однако ключевые элементы - лазерные источники, зеркала, оптика и управляющее ПО – по-прежнему приходится импортировать. По оценкам западных экспертов, китайское оборудование для 28-нм чипов отстаёт от зарубежного на четыре поколения и обладает гораздо более низкой производительностью. Система SSA800 способна обрабатывать 150 пластин в час, но выход годной продукции пока далёк от целевых 90-95%. В любом случае, для массового внедрения эти системы пока «сыроваты» и малочисленны.
Источник: https://3dnews.ru/1146156/kitayskoe-oborudovanie-klassa-duv-dlya-proizvodstva-chipov-na-neskolko-pok...
Если вам понравился материал, кликните значок — вы поможете нам узнать, каким статьям и новостям следует отдавать предпочтение. Если вы хотите обсудить материал —не стесняйтесь оставлять свои комментарии : возможно, они будут полезны другим нашим читателям!
