Фильтр по тематике
Правительство Китая продвигает две новые литографические машины, чтобы снизить зависимость от иностранных инструментов для производства чипов на фоне санкций США.
Таким образом, можно говорить о том, что одна новая машина лучше, чем серийно производящаяся для 90нм техпроцесса китайская SMEE SSX600, а другая – скромнее.
Обе новых машины значительно отстают даже от японской Nikon NSR-S636E (разрешение 38 нм, точность наложения - 2.1 нм), и самой скромной из машин нидерландской ASML: NXT:1980Fi (разрешение 38 нм, точность наложения 1.3 нм).
Вместе с тем, стоит отметить, что SMEE совершенствует свою продукцию высокими темпами, быстро проходя все новые этапы развития востребованных технологий в области фотолитографии.
