Российский ответ KLA: «Микрон» создаст установку контроля слоев чипов за 1,56 млрд рублей

Речь идёт о создании отечественного аналога установки ARCHER 10 XT компании KLA Corporation — одного из ключевых инструментов метрологии в микроэлектронном производстве. Название американской системы Archer символично совпадает с русским шифром проекта.

Разрабатываемое оборудование предназначено для автоматического измерения рассовмещения топологических слоёв на пластинах диаметром 150 и 200 мм с проектными нормами до 130 нм. Установка должна анализировать метки совмещения, использовать встроенный в оптическую колонну интерферометр для сканирования структур, формировать пакет данных для коррекции экспонирования и обеспечивать производительность не менее 75 пластин в час.

Контроль рассовмещения — критический этап литографического цикла: даже нанометровые отклонения между слоями могут привести к снижению выхода годных кристаллов. Поэтому к системе предъявляются предельно жёсткие требования по точности. По оценкам отраслевых экспертов, погрешность измерений должна быть существенно ниже уровня контролируемых отклонений.

Разработка подобной установки относится к числу наиболее сложных задач в сегменте оборудования для микроэлектроники. Проект требует синергии высокоапертурной оптики, прецизионной механики, систем позиционирования с нанометровой точностью, а также специализированного программного обеспечения. Особый вызов — алгоритмы машинного зрения, способные за миллисекунды обрабатывать изображения меток с учётом шумов, вариаций рельефа и технологических искажений.

Дополнительную сложность создаёт необходимость работы с пластинами разного диаметра, что усложняет механику и калибровку системы. При интеграции в производственную линию на точность также влияют вибрации, температурные колебания и требования полной автоматизации без участия оператора.

Эксперты называют бюджет проекта адекватным для опытно-конструкторской разработки, однако оценивают сроки как амбициозные. Ключевым фактором станет наличие технологического задела, прежде всего в области оптики и компонентной базы. При разработке «с нуля» именно оптическая часть может стать узким местом.

Существенным преимуществом проекта считается то, что «Микрон» выступает одновременно разработчиком и потенциальным пользователем установки. Наличие собственной производственной линии на 200 мм позволит тестировать систему в реальных условиях, ускоряя доводку и повышая шансы уложиться в директивный срок до 2029 года.