Основные характеристики установки
- разрешение: 350 нм;
- рабочая длина волны: 365 нм;
- диаметр обрабатываемых пластин: до 200 мм;
- рабочее поле: 22 × 22 мм;
- срок службы: не менее 5 лет;
- масса: 3,5 т.
Литограф создан для проекционного переноса изображений фотошаблонов при производстве СБИС, используемых в силовой и автомобильной электронике, а также промышленных системах.
Разработка велась ЗНТЦ совместно с белорусской компанией «Планар» по линии тендеров Минпромторга. Работы стартовали в 2021 году и были завершены весной 2025-го. Следующим шагом станет оборудование с разрешением 130 нм.
«В ходе проекта мы совместно с ЗНТЦ работали над технологией переноса изображения под задачи “Элемента” и “Микрона”. Подтверждено соответствие всем параметрам техзадания», — отметила генеральный директор АО «Микрон» Гульнара Хасьянова.
Значение проекта
Запуск установки призван укрепить технологическую независимость России и модернизировать существующие микроэлектронные производства.
Группа «Элемент» объединяет ведущие предприятия микроэлектроники, включая «Микрон», НИИ электронной техники, НИИЭМА «Прогресс» и ВЗПП-Микрон.
Источник: https://russianelectronics.ru/2025-09-24-rossijskogo-litografa/Если вам понравился материал, кликните значок - вы поможете нам узнать, каким статьям и новостям следует отдавать предпочтение. Если вы хотите обсудить материал - не стесняйтесь оставлять свои комментарии : возможно, они будут полезны другим нашим читателям!
